- R&D
- 研究所
- HOME
- R&D
- 研究所
研究所
- ㈱VSI技術研究所は、ナノ融合・複合基盤電界放出応用技術の世界最高水準能力および技術力を保有しています。
- 2012年には、電界放出の応用および商用化において最も核心的な要素であり、これまで技術の限界であると考えられてきたCNT電界放出源の劣化を克服する新機能、CNTペーストを開発しました。
- 韓国電子通信研究院（ETRI）の核心技術移転に加え、ナノ融合2020事業による積極的支援により、㈱VSIのCNT基盤電界放出デジタルX線源の技術が、世界初の商用化に成功しました。
- これまで実現しなかった人間中心の技術商業化の先端を走り続け、今日も㈱VSI技術研究所は、絶え間ない研究開発を行っています。