- R&D
- 研究所
- HOME
- R&D
- 研究所
研究所
- (株)VSI技术研究所拥有世界最高水平纳米融复合场发射应用技术实力。
- 早在2012年便开发出了场发射应用和普及最关键的要素，以及克服一直被视为现有技术局限的CNT场发射源恶化问题的新功能CNT paste。
- 通过韩国电子通信研究院(ETRI)的核心技术转移及纳米融合2020事业的积极支援，(株)VSI的CNT场发射数字X射线源技术在全球最早成功实现商用化。
- 今天，(株)VSI技术研究所仍在向着无人到达过的以人为中心的技术商用化的巅峰进发。